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V2真空炉系列

V2MS17-真空氧化炉

  • 所属分类:V2真空炉系列
  • 浏览次数:
  • 发布时间:2024-09-24 15:36:20
  • 详情概述
  • 简要描述:

    选用硅钼棒作为加热元件,氧化铝纤维为保温材料,可充入氧气气氛,可用作材料的氧化、烧结、退火等工艺。


    一、设备基本原理与特点

    1. 基本原理

    真空硅钼棒炉为气体保护多用途炉,可满足在还原气体或成型气体气氛中对蓝宝石退火,还原、烧结和表面处理等工艺需要,广泛应用于航空航天、金属材料、粉末冶金、陶瓷产品、半导体器件、厚膜电路、磁性材料等领域。

    2.设备特点

    1)具备完善的报警功能,更的安全连锁保护系统;                                            

    2)完善的气氛控制系统,满足各种工艺需要;       

    3)高性能优质电气元件保证设备长期运行的稳定可靠性;                                          

    4)低负荷加热器,可有效提高设备的使用寿命。

    二、主要技术参数

    编号 

    V2MS17

    产品型号 

    VHSms-20/20/30-1700

    最高设计温度(   

    1700

    加热元件

    硅钼棒

    加热功率(kW

    12

    冷态极限真空度( Pa  

      6.7x10-2Pa(空炉、冷态、经净化)

    测温元件

    钨铼热电偶

    升温速率

    1~10℃/min

    温度均匀性

    ±5℃(5点测温,恒温区1000℃保温1h后检测)

    炉膛尺寸(mm)

    200x200x300(WxHxD)

    可充气氛

    氮气/氩气一路

    设备外形尺寸 mm  

    1425x1550x1850mm(DxWxH)


    应用

    广泛应用于航空航天、金属材料、粉末冶金、陶瓷产品、半导体器件、厚膜电路、磁性材料等领域

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